온라인 모니터링 시스템

반도체 제조 공정에서 실리콘 웨이퍼의 세정 공정은 매우 중요합니다. 세정액에 금속 불순물이 포함되어 있으면 웨이퍼에 받아 들여져 제품의 수율에 영향을 미칩니다. 따라서 샘플을 모니터하는 것이 중요하지만, 현재는 ICP-MS 등을 이용한 오프라인으로 분석되고 있습니다. 오프라인 분석에서는 만일 금속 오염이 발생해도 문제 발견하는 데 몇 시간이 필요하기 때문에 그 사이에 대량의 불량품이 생산되어 버립니다. 따라서 현실적으로는 이러한 문제를 피하기 위해 샘플이 오염의 유무에 관계없이 일정 주기로 교체되어야 합니다.

당사의 온라인 모니터링 시스템은 세정액 탱크 근처에 마련된 샘플링 모듈에서 생성 된 미세 에어로졸을 아르곤 가스 기류에 실어 장거리 (100 m까지)를 이송하고 ICP-MS 근처에 설치된 전환 밸브에서 세정액을 선택하여 ICP-MS에서 자동 분석 시스템입니다. 최대 10라인까지 전환하여 설치 및 측정한 바 있으며, 대부분의 금속 원소는 10ppt 이하의 모니터가 가능합니다. 온라인 모니터링 소프트웨어는 각종 메이커의 ICP-MS에 대응할 수 있도록 설계되어 있습니다. 온라인 모니터링 소프트웨어가 가진 주요 기능은 다음과 같습니다

• 검량선의 자동 생성 (상관 계수 및 최저 감도 확인)
• 검량선의 자동 재교정
• QC (품질 관리) 샘플에 의한 검량선 체크(일정 시료 수마다 다시 확인)
• 내부 표준 원소에 의한 증가/감소 체크
• Standard Solution 중에 불순물 농도 수준의 2단계 상한치 설정
• Cleaning Solution 탱크로부터 신호를 받아 인터럽트 분석 (Cleaning Solution 의교환 전후 등)
• Cleaning Solution 탱크마다 기록 관리
• Cleaning Solution 탱크로부터 채취량의 제어 • 관리
• Cleaning Solution 자동 희석 기능
• 산 • 알칼리 시료를 혼합해서 사용 가능한 지능형 기능
• PFA튜브에서 에어로졸을 100m까지 전송 가능